国際新技術フェア2001

2001年11月13日(火)〜15日(木)

東京ビックサイト

国際新技術フェアは，産官学の技術交流，技術移転，パートナー発掘を目的として開催されます．

当研究室からも，科学技術振興事業団 光走査装置プロジェクトとして「高精細プリンター用のマルチ対応光走査装置」の研究内容に関して出展しました．

展示ブース

左の写真：右から，小俣さん(リーダー)，内藤さん((株)オプセル取締役就任予定)，新田先生(サブリーダー)

右の写真：右から，井口さん(研究員)，森島さん(営業企画)，菅野(研究員)

展示した装置

(1)感光材料評価用レーザー走査装置

レーザーに感度を持つ感光材料への書き込み実験および評価を行なう装置です．画像データはビットマップ形式を用い，パソコンから入力可能で2,540dpiで約80mm×80mmを出力することが可能です．本装置を用いることで低コストで，なおかつ自由度の高い実験および評価が可能になります．

詳しい内容はこちらの当日配布資料をご参照ください．

(2)マルチポリゴン光走査装置 （特許出願中）

2,540dpiの高解像度で走査幅80mmのレーザースキャナーユニットを多数個並べることにより，高解像度で超高速出力を可能にしています．アプリケーション例は印刷製版CTP装置，プリント基板直描装置，レーザー計測装置などです．

詳しい内容はこちらの当日配布資料をご参照ください．

(3)シュリンクフィッタを用いた高精度走査用ｆθレンズ (特許出願中)

新田先生が発明したシュリンクフィッタを用いて組込んだ超高精度レンズです．締りばめにより各レンズの光軸が一致するので，すべての走査域において微細なレーザースポットを結びます．また環境温度が変化してもスポット形は変化しません．

詳しい内容はこちらの当日配布資料をご参照ください．

説明風景

開催期間の3日間で，多数の方々に見ていただくことができました．特に関連業界の方々には深く興味を持っていただき，ニーズ等を直接ディスカッションすることができたことが，起業化へ向けての良い情報収集元となったとも言えます．

本研究内容に関するお問い合わせは下記までお願いいたします．