新潟ビジネスメッセ2002

2002年11月8日(金)〜9日(土)

新潟市産業振興センター

ビジネスメッセは，幅広い分野から新潟地域にビジネス提案をする企業を募集し，
情報収集，商談などのビジネスチャンスを提供することを目的とした産業見本市です．

当研究室では，新潟大学工学部として「プリント基板用レーザー直接描画装置」「高視野高解像度デジタル顕微鏡」
「高精度光学系によるレーザー微細加工システム」に関して出展しました．

展示ブース

左の写真：（株）オプセルの重役の方々（右から，小俣社長，内藤取締役，新田先生(開発担当取締役)）
右の写真：当研究室の学生，岡本さん（左），西村君（右）

展示した装置

　
プリント基板用レーザー直接描画装置（左）

マルチポリゴン走査方式の光走査ユニットを用いて，高速，高精細にプリント基板を直接描画する装置です．
パソコンからの入力で1ユニット当たり走査幅80mm(2,540dpi)を出力するため，マスクフィルムを必要とせず多品種生産を可能にします．

高視野高解像度デジタル顕微鏡（右）

高解像度の顕微鏡で撮影した低視野の画像をデジタル画像処理で自動合成することによって高視野を実現します．

説明風景

開催期間の2日間で，多数の方々に見ていただくことができました．
企業の方からはこれまでの研究結果の応用について助言をいただいたりすることもできました．
ありがとうございました．